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真空高温炉

简要描述:真空高温炉用于真空与气氛状态下,陶瓷材料的合成与烧结;玻璃融化,金属熔融,分体煅烧;无氧或者气体保护状态下,有机质的热解碳化;干燥,浓缩,热处理。

  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2023-11-20
  • 访 问 量:976

产品介绍

品牌 中奥菲达 升温速度(达到最高温) 40min
内部尺寸 300x200x200mm 加热方式 硅碳棒
最大功率 4000W 控温精度 1℃
最高温度 1400℃ 价格区间 1万-2万
仪器种类 箱式炉 产地类别 国产
应用领域 医疗卫生,环保,化工,生物产业,综合

真空高温炉通用功能

1、升温速度快:20min内就可由室温程序升温至1000℃ ;

2、气氛环境:真空环境,真空度可达-0.0099Mpa;

3、水冷却系统:根据物料特性,温度可达到1400℃,长时间连续工作温度100~1300℃;

4、单路气氛:设置气体进出口及炉膛内气体排出口;

5、进口红外测温仪,可以不接触测试物料温度,避免微波场干扰;

6、门体多重连锁结构,开门断电,保护操作人员,微波泄漏防护符合国标;

7、采用PLC自动控制,温度功率均智能可控,触摸屏操作;

8、微波功率可调,连续可调。

真空高温炉重要技术参数
一、型号:AFD1100-50;
二、设备尺寸
a、工作区尺寸:D500(mm) * W400(mm) * H400(mm);
三、机器结构
a、单门落地式,控制部分位于机台下方;
b、炉门为从左至右打开。
四、主要技术参数
a、温度范围:RT~1300℃;
b、温度波动度:±1.0℃;
c、温度均匀度:≤±5.0℃;
d、温度:1400 ℃;
e、额定温度:1300℃;
f、加热元件:硅碳棒
g、热电偶型号:B型
h、四周表面温度:≤ 温升50℃;
i、升温速率:≤ 20 ℃/ Min;
j、升温速率:10 ℃/ Min;
K、降温速率:≤ 15 ℃/ Min(炉膛温度≥1000℃);
l、降温速率:≤ 10 ℃/ Min(炉膛温度≤1000℃);
m、加热元件放在炉膛两边采用气体对流和热辐射加热;
n、炉内真空度20Kpa,炉内正压:max0.1Mpa;
o、炉膛内可通氢气、氮气,氧气(少量)、氩气等气体。
五、内外材质
a、炉膛材料:1560型日本进口氧化铝多晶体纤维(阿尔塞);
b、外层SPCC钢板防锈处理+粉体烤漆处理;
六、密封装置
a、炉门与炉体采用硅橡胶密封,配有循环水冷却装置;
b、炉体采用双层炉壳,外城炉壳采用硅橡胶密封;
七、温控系统;
a、温度控制为PID微电脑自动演算,PV/SV同时显示按键设定;
b、温度控制方式为P.I.D+S.S.R可控硅;
c、控制方式:40段程序控温;
八、保温及加热方式
a、耐高温纤维及空气隔热;
b、加热方式为热辐射及自然对流;
九、安全保护系统
a、保险丝;
b、过电流保护装置、过温保护装置;
十、配件清单
a、流量计:1只;
b、高温手套:一副;
c、氧化铝垫砖:1 块;
十、电源: 三相380V

功率:12KW

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